电子芯片清洗用超纯水设备

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概述:

    电子芯片清洗用超纯水设备主要由超滤设备、反渗透设备、离子交换设备、EDI装置等组合而成。

电子芯片清洗用超纯水设备工艺流程：原水→增压泵→石英砂过滤器→活性碳过滤器→保安过滤器→一级高压泵→一级反渗透系统→中间水箱(PH调节)→二级高压泵→二级反渗透系统→纯水箱→纯水泵→UV装置→0.2um精滤器→EDI装置→用水点

设备特点：

1.脱盐率大于99.9%，效率远远高于两级反渗透和单纯的离子交换。

2.较传统的离子交换法脱盐节约树脂95%以上。

3.离子交换树脂不需使用酸碱再生，节约大量酸碱和清洗用水，降低劳动强度。

4.清洁生产，无废水处理问题，利于环保。

5.自动化程度高，易维护，可设计成完善的膜技术高纯水生产线。

6.产水电阻率15-18MΩ.cm。

7.占地面积小，单一系统连续运转，不需建设备用系统。

8.操作维护简单。
9.运行费用及维修成本低。
10.无酸碱储备及运输费用。
11.全自动运行，无需专人看护。

   可源电子芯片清洗用超纯水设备制水过程高度自动化，自动进水，自动制水，纯水箱满水自动停机，用水后自动恢复，可完全实现无人值守的运行，出水水质满足工业清洗行业用水标准。